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在信息化时代，显示技术是人机交互的重要方式，如今液晶显示技术已非常成熟，而有机发光二极管（OLED）作为现在最为热门的显示技术，具有轻薄、响应快、不需背光源、可柔性等优势，已经被广泛应用于高端显示中。量子点发光二极管（QLED）和OLED显示技术结构非常相似，相较于OLED，QLED具有发光半峰宽窄、同一量子点材料发光光谱可调、制备时水氧要求低和寿命更长等优点，呈现出新一代显示技术的潜力。
《数字印刷》学术期刊年第1期，向华南理工大学材料科学与工程学院、高分子光电材料与器件研究所宁洪龙研究员特约综述——《印刷OLED/QLED材料研究进展》，阐述了印刷OLED/QLED材料的性能，并对其未来技术发展和研究方向进行展望。
印刷OLED/QLED材料研究进展
作者简介：
宁洪龙（年-），博士，华南理工大学材料科学与工程学院、高分子光电材料与器件研究所研究员。原韩国三星显示公司首席科学家，作为项目负责人多次主持韩国三星公司的尖端研发项目，开放出多种基于新材料和新结构的高性能信息显示器件。曾获得广东省科学技术奖一等奖。主要研究方向为新型信息显示材料与器件系统集成。
摘要
近年来，基于薄膜晶体管（TFT）技术的有机发光二极管（OLED）显示已经逐步取代液晶显示成为主流显示技术。量子点发光二极管（QLED）和OLED结构相似，且半峰宽窄，光谱可调，寿命长，极具发展潜力。使用印刷技术制备OLED/QLED具有节约材料、易于图形化和精度高等优点，是下一代显示技术的研究方向。虽然印刷OLED/QLED技术发展尚未完全成熟还有许多量产问题需要解决，但吸引了许多企业与科研人员的